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超純水設(shè)備
我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
關(guān)鍵詞:
環(huán)保設(shè)備 | 新型環(huán)保藥劑
所屬分類:
超純水設(shè)備
產(chǎn)品描述
電子半導(dǎo)體行業(yè)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
我公司電子級超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
電子工業(yè)對水質(zhì)的要求:
微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質(zhì)的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
應(yīng)用場合:
☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
☆超純材料和超純化學(xué)試劑;
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
☆汽車、家電表面拋光處理;
☆光電產(chǎn)品;
☆其他高科技精微產(chǎn)品;
典型電子級超純水制備工藝:
☆預(yù)處理----反滲透----水箱----陽床----陰床----混合床----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----精制混床----微孔膜過濾器----用水對象
☆預(yù)處理----一級反滲透----pH調(diào)節(jié)裝置----中間水箱----二級反滲透----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象
☆預(yù)處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象
新工藝
☆預(yù)處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----拋光混床----TOC分解器----微孔膜過濾器----用水對象
部分產(chǎn)品規(guī)格:
型號 |
產(chǎn)水量(m³/h) |
管徑(mm) |
工作壓力(MPa) |
材質(zhì) |
工作方式 |
AMDZHY-1 |
1 |
DN25 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-5 |
5 |
DN32 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-20 |
20 |
DN50 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-50 |
50 |
DN80 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-60 |
60 |
DN100 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-80 |
80 |
DN125 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-100 |
100 |
DN150 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
AMDZHY-120 |
120 |
DN200 |
≤1.6 |
不銹鋼/碳鋼 |
全自動/半自動 |
免費(fèi)獲取產(chǎn)品報(bào)價

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